中 CXMT, 고유전율 D램 소재 양산 적용…삼성·SK '맹추격'

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[지디넷코리아]D램 업계 후발주자인 중국 창신메모리(CXMT)의 추격이 거세다. 기존 메모리 선두업체들의 전유물처럼 여겨지던 고유전율(High-k) 소재를 최신 D램 제품에 성공적으로 적용한 것으로 나타났다.이에 삼성전자·SK하이닉스 등은 4F스퀘어, 3D D램 등 차세대 구조 개발에 박차를 가하고 있다.최정동 테크인사이츠 수석부사장은 27일 메모리 산업 동향 웨비나에서 최첨단 D램 기술 개발 로드맵에…

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